石墨托盤進行腐蝕清洗的方法包括以下步驟

　　石墨托盤包括盤體和覆蓋在盤體上表面的支架蓋。盤體為扁平圓柱形，其上表面為平面盤體可由石墨材料制成，上表面覆蓋有一層碳化硅保護層，其上表面為支架上設有用于容納MOCVD工藝基板的凹槽支架可以采用石英材料制作本發明的優點是提高石墨托盤在MOCVD設備中的使用壽命和適用性，使其可以適用于不同尺寸和形狀的基材。
 

　　

　　1、熱穩定性：根據快速加熱和冷卻的使用條件，專門設計以確保產品質量的可靠性。

　　

　　2、耐腐蝕：均勻精細的基體設計延緩了產品的腐蝕程度。

　　

　　3、抗沖擊性：產品能承受*的熱沖擊強度，因此可以安全地進行任何工藝處理。

　　

　　4、耐酸性：特殊材料的加入顯著提高了產品質量，耐酸性指標表現良好，大大延長了產品的使用壽命。

　　

　　5、高導熱性：高含量的固定碳保證了良好的導熱性，縮短了溶解時間，顯著降低了能耗。

　　

　　6、金屬污染控制：對材料成分的嚴格控制，確保產品溶解時不會污染金屬。

　　

　　7、質量穩定性：高壓成型法的制造工藝和質量保證體系，充分保證質量的穩定性。

　　

　　采用MOCVD設備對石墨托盤進行腐蝕清洗的方法包括以下步驟：

　　

　　1、將石墨托盤放入MOCVD設備的反應室中；

　　

　　2、調節反應室溫度和反應室上蓋上的石英頂板；

　　

　　3、注入氯化氫進行預腐蝕；

　　

　　4、增加氯化氫流量，根據石墨盤生長材料的厚度確定腐蝕速率；

　　

　　5、停止加氯化氫，烘烤石墨盤；

　　

　　6、關閉加熱，反應室溫度降至100℃以下，腐蝕清洗完成。

　　

　　在MOCVD設備的基礎上直接腐蝕石墨托盤，無需額外的設備改造。石墨盤采用氯化氫腐蝕清洗，既解決了腐蝕的均勻性問題，又能準確掌握腐蝕程度，間接減少對石墨盤的影響，延長石墨盤的使用壽命，降低產量成本。